

研究背景
后摩尔时代高集成芯片、光通信模块、微型传感器件热流密度持续飙升,传统风冷、液冷无法实现微米级局部精准控温,微型热电制冷器(μ-TEC) 凭借全固态、无振动、毫秒级温控优势成为高端电子热管理核心方案。当前商用微型热电器件全部基于碲化铋(Bi2Te3)体系,但碲在地壳储量极低、具备生物毒性,材料脆性大、微加工易碎裂,严重限制规模化可持续应用。Mg3(Bi,Sb)2(n 型)与 MgAgSb(p 型)镁基热电材料室温热电优值 zT 接近 0.95,机械强度是碲化铋数倍,是无碲替代最优候选材料,但该类镁基材料对高温、水汽极度敏感:传统热压、电镀、CVD 界面制备工艺存在高温组分挥发、相变分解、界面元素互扩散、电解液腐蚀等缺陷,难以实现微米尺度热电臂精密组装;同时高温工艺下界面层厚度动辄数百微米,接触电阻居高不下,大幅损耗制冷功率密度,长久以来缺少适配镁基材料的低温、无溶剂微制造路线,限制镁基微型制冷器件落地。针对界面制备与微型化两大核心瓶颈,本文开发室温磁控溅射冷键合工艺,全程低温无水、隔绝高温损伤,构建 Mo 缓冲层复合金属界面,首次实现高性能镁基微型热电制冷器制备,为绿色微型热管理器件提供全新制备范式。
武汉纺织大学陈玲、吴立明教授等人在《Nature Communications》上发表了题为“A low-temperature, water-free fabrication route to Mg-based micro thermoelectric coolers for thermal management”的研究论文。
本文核心亮点
1.首创镁基热电低温无水冷键合制备路线,规避材料高温失效:
采用室温磁控溅射替代传统高温热压 / 电镀,全程无水分、无高温热处理,完美解决Mg3(Bi,Sb)2、MgAgSb 高温挥发、相变、水汽腐蚀难题;设计 Cu/Mo、Ag/Mo 双层缓冲界面,Mo 作为扩散阻挡层抑制金属与镁基材料元素互扩散,同时匹配热膨胀系数,界面结合强度可达 4 MPa 以上。
2.超薄低阻复合界面,大幅降低接触损耗:
n 型Cu/Mo/Mg3.2Bi1.4975Te0.0025界面接触电阻率低至5.9 μΩ⋅cm2,界面总厚度仅 1.5 μm,较传统热压数百微米界面缩小两个数量级;高温老化后界面无裂纹、电阻率几乎无衰减,热稳定性优异。
3.极致微型化高密度镁基 μ-TEC,制冷性能大幅突破现有镁基器件:
热电臂尺寸仅0.48×0.48×0.56 mm,仅为传统镁基器件尺寸 3%;器件整体尺寸2.95×4.35×1.4 mm,填充密度 43.1,封装密度高达 93.5 对 /cm2;最大制冷功率密度4.34 W⋅cm−2,是已报道镁基制冷器件 4 倍以上,冷热端最大温差可达 32 K。
4.系统界面力学与热应力仿真,揭示 Mo 缓冲层调控机制:
通过有限元模拟对比有无 Mo 层、不同界面厚度下器件热应力分布,证实 Mo 层可隔离界面热失配应力,热电基体内部平均应力维持在较低水平,器件冷热循环下结构完整性优异,为微型热电界面结构设计提供量化理论依据。
5.完整工程化验证,兼顾材料、界面、器件全链条可控:
完成粉体烧结、溅射镀膜、微切割、封装全流程工艺验证,多批次器件电阻、温差变异系数低于 2%,重复性优异;证实该低温无水工艺具备规模化制造潜力,适配光芯片、微型传感器等精密电子局部制冷场景。
图文解析

图1:界面工艺对比与器件综合性能

图2:n 型热电界面微观表征

图3:界面电学与热应力仿真

图4:材料与器件制冷性能
主要结论与研究展望
本文开发室温磁控溅射低温无水冷键合工艺,构建 Cu/Mo、Ag/Mo 扩散阻挡双层界面,解决镁基热电材料不耐高温、易氧化分解的制备难题;所制备微型热电器件实现极致小型化与超高封装密度,界面接触电阻极低、机械热稳定性优异,最大制冷功率密度刷新镁基微型器件纪录,有限元仿真明确 Mo 缓冲层缓解热失配应力的调控机理,整套制备路线可规模化用于无碲环保型微型热管理器件制造。后续可进一步优化 p 型 MgAgSb 界面接触电阻、降低陶瓷基板厚度,通过工艺迭代将制冷功率密度提升至9.5 W⋅cm−2以上;拓展柔性基底、大面积连续溅射制备工艺,开展光模块、可穿戴传感芯片实机散热测试;同时拓展镁基热电发电微型器件,实现废热回收与制冷一体化双功能系统。
文献信息
A low-temperature, water-free fabrication route to Mg-based micro thermoelectric coolers for thermal management.Nature Communications.
https://doi.org/10.1038/s41467-026-75165-8
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