1.针对无反溶剂工艺中溶剂化中间体过多阻碍α-FAPbI₃结晶的难题,提出“平衡分子相互作用”策略,以间苯二甲酸二甲酯(DMIP)为母核,系统研究不同5-位取代基(-H、-F、-Cl、-Br、-NH₂、-OCH₃、-OH)对结晶调控的影响。
2.发现氟取代的DMIP-F(偶极矩1.9 Debye)效果最优,其与Pb²⁺的配位、与FA⁺的氢键以及与I⁻的弱相互作用达到了最佳平衡,将α相开始主导的时间(t_{d-α})从>150秒缩短至23秒,实现了更快速、更完全的α相转变。
3.基于DMIP-F的无反溶剂n-i-p结构纯FAPbI₃器件获得26.28%的冠军效率(Voc 1.191 V,FF 85.6%),为无反溶剂法制备纯FAPbI₃器件的最高报道效率之一,93.1 cm²组件效率达20.21%。
4.器件在ISOS-L-1条件下1000小时最大功率点追踪后保持90%初始效率,在85°C氮气中1500小时热老化后保持93.7%效率,展现出优异的运行稳定性和热稳定性。
一、本研究针对的问题与挑战
无反溶剂法因其与规模化涂布工艺的兼容性而极具前景,但缺乏反溶剂诱导的快速过饱和导致成核时间窗口宽、结晶调控难度大,通常伴随大量溶剂化中间体的形成,这些中间体会使α-FAPbI₃的结晶路径发生偏转,导致δ相残留、缺陷密度升高和器件性能受限。二、成果简介
本文提出了一种“平衡分子相互作用”策略:以间苯二甲酸二甲酯(DMIP)为刚性对称分子骨架,通过在其5-位引入不同取代基(-H、-F、-Cl、-Br、-NH₂、-OCH₃、-OH)系统调控分子偶极矩和相互作用强度。研究发现,氟取代的DMIP-F(偶极矩1.9 Debye)具有适中的熔点和温和的偶极矩,其与Pb²⁺(通过C=O和C-F位点配位)、FA⁺(通过氢键)和I⁻(通过弱相互作用)的多位点作用达到了最佳平衡,既有效抑制了溶剂化中间体的积累,又不过度稳定中间相而阻碍α相转变。原位光致发光监测表明,DMIP-F将α相主导开始的时间(t_{d-α})从>150秒大幅缩短至23秒,实现了更快速、更完全的α-FAPbI₃相转变。基于此策略的反式结构器件效率达26.28%,93.1 cm²组件效率20.21%,且在1000小时MPP追踪和1500小时85°C热老化后均保持90%以上效率。三、结果与讨论
要点 1 分子设计与偶极矩-结晶动力学关联
首先以DMIP为母核,在其5-位分别引入-H、-F、-Cl、-Br、-NH₂、-OCH₃和-OH七种取代基,通过静电势分布计算确认了这些分子与FA⁺、Pb²⁺和I⁻的潜在多位点相互作用模式。偶极矩测量显示,卤素取代(尤其是-F)使分子偶极矩从母核的3.54 Debye降至1.9 Debye,而给电子取代基则使偶极矩增至4–5 Debye。值得注意的是,DMIP-F的熔点(67°C)远低于母核(129°C),表明氟取代削弱了分子间堆积,有利于添加剂在前驱体中的扩散迁移。
将七种添加剂分别引入无反溶剂器件后,统计分布显示DMIP-F在PCE和Voc上均表现最优(PCE集中分布于~26%,Voc稳定在~1.19 V),而母核DMIP仅带来中等改善(~24.5%),给电子衍生物(-NH₂、-OH、-OCH₃)和-Cl、-Br衍生物甚至损害了器件性能。这说明有效的结晶调控不需要最强的相互作用,而需要适中的分子极性和相互作用强度——过强会过度稳定中间体,过弱则不足以调控结晶路径,唯有DMIP-F达到了最佳平衡。
要点 2 DMIP-F调控的结晶路径与薄膜质量
为了理解不同添加剂对结晶过程的影响,作者采用原位PL光谱实时监测了无反溶剂旋涂和退火过程中的相演化。对照样品在旋涂过程中始终呈现两个PL峰——~780 nm的α相和600–700 nm的溶剂化中间体,且中间体峰在整个旋涂窗口内始终强于α相峰,表明对照遵循中间体主导的结晶路径。
引入DMIP及其衍生物后,α相峰相对增强,双峰共存减弱。作者进一步定义了“α相主导时间”t_{d-α}——即α相峰首次持续超过中间体峰的时间。对照的t_{d-α}超过150秒(在整个旋涂过程中未能实现α相主导),DMIP-F将此时间大幅缩短至约23秒,DMIP-Cl约51.5秒,DMIP-Br和DMIP-NH₂约65秒,DMIP和DMIP-OH约80–84秒,而DMIP-OCH₃最长约95秒。值得注意的是,退火过程中DMIP-F的PL强度变化最小,说明有利的结晶路径在旋涂早期就已确立。
稳态PL的α相/中间体峰强度比和积分面积比与t_{d-α}呈良好负相关,DMIP-F同时获得了最高的α/中间体比值和最短的t_{d-α},证实了其最优的结晶调控能力。
要点 3 DMIP-F对薄膜质量、应力与光物理性质的全面改善
原位光学显微镜观察到对照前驱体在沉淀过程中出现快速、高密度的成核,而DMIP-F显著延缓了成核并使其更均匀,为后续晶体生长提供了更长的窗口,最终获得更大更均匀的晶粒。原位UV-vis吸收显示对照薄膜在退火后吸收急剧上升(对应中间体→α相突变),而DMIP-F的演化更平缓,表明中间体积累减少。
SEM顶视图显示DMIP-F薄膜晶粒显著增大且PbI₂残留消失,截面图进一步显示对照薄膜在衬底附近存在空洞,而DMIP-F薄膜形成了贯穿全厚度的致密柱状晶。AFM显示DMIP-F表面更平滑,水接触角从46.3°增至66.6°。
GIXRD变角应变分析显示对照薄膜随ψ角增大(100)峰明显向低角度偏移(拉伸应变),而DMIP-F的峰位移显著减小,定量计算表明残余拉伸应力从94.2 MPa降至32.7 MPa,源于更平缓连续的相演变过程。
时间分辨共聚焦PL成像和寿命面扫显示DMIP-F薄膜的发光更强、更均匀且平均寿命更长。飞秒瞬态吸收光谱中DMIP-F在770 nm处的基态漂白信号更强,衰减动力学进一步证实了更长的激发态寿命。这些结果表明DMIP-F有效抑制了缺陷辅助的非辐射复合。
要点 4 DMIP-F多位点相互作用的实验与理论证据
DFT非共价相互作用分析表明,DMIP-F的C=O和C-F位点与Pb²⁺存在强吸引作用,与FA⁺存在弱至中等氢键作用,与I⁻主要为范德华作用。¹H NMR显示FAI与DMIP-F混合后,FA⁺的C-H和N-H信号向低场位移,DMIP-F的-OCH₃信号向高场位移,表明氢键作用和弱相互作用。¹³C NMR进一步证实DMIP-F的羰基碳和C-F键合碳在与FAI或PbI₂混合后发生位移。
FTIR提供了更直接的证据:DMIP-F与FAI混合后,FA⁺的N-H伸缩振动从3360红移至3354 cm⁻¹,C-F从1258蓝移至1263 cm⁻¹;与PbI₂混合后,C=O振动从1716/1734红移至1714/1728 cm⁻¹,C-F蓝移至1261 cm⁻¹,-OCH₃相关振动从1222红移至1214 cm⁻¹。这些光谱变化为DMIP-F与FA⁺、Pb²⁺和I⁻的多位点相互作用提供了直接证据。
XPS显示DMIP-F处理后Pb 4f峰向低结合能移动,Pb⁰信号完全消失,I 3d峰也向低结合能移动,表明金属铅缺陷被有效抑制。KPFM显示对照薄膜的晶界电势明显低于晶粒内部,而DMIP-F处理后晶界电势高于晶粒内部;EDS显示F元素在晶界区域富集。这些结果表明DMIP-F倾向于分布在晶界处,通过多位点相互作用参与缺陷钝化。
要点 5 能级匹配、电荷动力学与器件性能
UPS能级测量显示DMIP-F使钙钛矿的价带顶从-5.77 eV上移至-5.62 eV,与Spiro-OMeTAD(-5.34 eV)的能级偏移从0.43 eV降至0.28 eV,显著降低了空穴提取势垒。这得益于DMIP-F温和偶极矩带来的有利界面电子结构。
PL和TRPL显示DMIP-F薄膜的PL强度显著增强,平均载流子寿命从728 ns延长至1352 ns。PLQY从5.08%升至8.09%,QFLS从1.156 eV增至1.184 eV,FF损失分析显示电荷传输和非辐射复合损失均显著降低。暗态J-V、Mott-Schottky、EIS和SCLC测量共同证实DMIP-F器件具有更低的暗电流、更高的内建电势(0.92→1.07 V)、更低的串联电阻(20.85→8.97 Ω)、更高的复合电阻和更低的陷阱密度(1.47×10¹⁵→1.07×10¹⁵ cm⁻³)。
冠军DMIP-F器件效率达26.28%(Voc 1.191 V,Jsc 25.81 mA/cm²,FF 85.6%),对照为25.00%。EQE显示DMIP-F在400–500 nm波段的响应显著增强,积分电流从25.14增至25.69 mA/cm²。稳态功率输出在300秒内保持在26%以上。光强-Voc的理想因子从1.47降至1.32,陷阱辅助复合被抑制。93.1 cm²刮涂组件效率达20.21%。MPP追踪1000小时后DMIP-F保持90%初始效率(对照600小时后仅60%),85°C热老化1500小时后DMIP-F保持93.7%效率(对照1200小时后仅77.8%)。
四、小结
本文针对无反溶剂工艺中溶剂化中间体阻碍α-FAPbI₃结晶的瓶颈,系统研究了DMIP系列衍生物的取代基效应,揭示了分子偶极矩与结晶调控性能之间的关联。发现具有温和偶极矩(1.9 Debye)的DMIP-F通过C=O/C-F与Pb²⁺配位、与FA⁺氢键、与I⁻弱相互作用的多位点协同,实现了对溶剂化中间体的有效抑制而不过度稳定中间相,将α相主导时间从>150秒缩短至23秒,获得了高质量、低应变、低缺陷密度的α-FAPbI₃薄膜。基于此策略的无反溶剂器件效率达26.28%,93.1 cm²组件效率20.21%,并在MPP追踪和85°C热老化下均表现出优异的长期稳定性。该工作为无反溶剂钙钛矿结晶调控提供了分子设计原则,对推动大面积、可扩展钙钛矿光伏制造具有重要意义。五、参考文献
Yao, L., Cai, H., Liu, Y. et al. Balanced molecular interactions with mild dipole moment for intermediate suppressing in high performance antisolvent-free regular α-FAPbI₃ solar cells. Adv. Mater. (2026).
https://doi.org/10.1002/adma.202673696

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